シリコンウエハは主にメモリ、論理集積回路、電源装置、センサなど様々な分野で使用されています。また、CMOS、EPI、SOI..などのシリコン基板の種類にも直接適用できます。彼らは現代のエレクトロニクスのビルディングブロックです。PGO TECHはさまざまな仕様のケイ素ウエハース(300mm、200mm、150mm、125mm、100mm、76mm、50mmおよび25mm)の直径を幅広い用途に適しています。

私たちのヴァージンシリコン基板は、チクラルスキ(CZ)プロセスと呼ばれる最も一般的に知られている結晶成長プロセスを使用して高純度シリコンインゴットから作られています。

PGO TECHはまた、超高ドープシリコンウエハーを提供することにより省エネ傾向に適合しており、低電圧パワーMOSFETデバイスの重要な要因である問い合わせ時に低抵抗RDSを満足させる。

ウエハーは窒素パージで乾燥して湿度を下げ、テープは密封され、二重袋に入れ(PE +アルミニウムバッグ)、そしてクラス1-10のクリーンルーム環境で真空パックされます。

また、特別仕様または規格に関するお客様の要求事項を満たすことに努めています。

一般的なシリコンウェーハ仕様:

http://ja.pgosemi.com/